Diferencia entre revisiones de «Fotolitografía»

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[[Archivo:Wafer-trasparente.png|250px|thumb|Obleas fotolitografiadas.]]
{{referencias adicionales|t=20151031142548}}
La '''fotolitografía''' es un proceso empleado en la fabricación de dispositivos semiconductores o [[Circuito integrado|circuitos integrados]]. El proceso consiste en transferir un patrón desde una [[fotomáscara]] (denominada retícula) a la superficie de una [[Oblea (electrónica)|oblea]]. El [[silicio]], en forma cristalina, se procesa en la industria en forma de obleas. Las obleas se emplean como sustrato litográfico, no obstante existen otras opciones como el [[vidrio]], [[zafiro]], e incluso metales. La fotolitografía (también denominada "microlitografía" o "[[nanolitografía]]") trabaja de manera análoga a la [[litografía]] empleada tradicionalmente en los trabajos de [[impresión]] y comparte algunos principios fundamentales con los procesos fotográficos.
 
== Procesos de la fotolitografía ==
Un ciclo típico de procedimientos en la fotolitografia podría constar de los siguientes procesos:
* '''Preparación del sustrato'''. Se empieza depositando una capa de metal conductivo de varios [[nanómetro]]s de grosor sobre el sustrato.
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