Diferencia entre revisiones de «Máscara fotográfica»

[[Image:Mask illustration.svg|right|thumb|280px|Ilustración esquemática de una fotomáscara (arriba) y un [[circuito integrado]] (abajo) creado con esta máscara.]]

 

==Utilización==

Las fotomáscaras se utilizan comúnmente [[fotolitografía]].<ref name="EynonWu2005">{{cita libro|autor1=Benjamin Eynon|autor2=Banqiu Wu|título=Photomask Fabrication Technology|url=http://books.google.com/books?id=QCdxo8aTglYC|fecha=21 de julio de 2005|editorial=McGraw Hill Professional|isbn=978-0-07-158891-1}}</ref> En la fabricación de circuitos integrados, un conjunto de fotomáscaras, definiendo cada una de ellas, una capa patrón, se introduce en un paso a paso de fotolitografía (o escáner), y se selecciona individualmente para la exposición.<ref>{{cite book|last= Rizvi|first=Syed |title=Handbook of Photomask Manufacturing Technology|publisher=CRC Press|date=2005|pages=728|chapter=1.3 The Technology History of Masks|isbn=9781420028782|url=http://books.google.com/books?id=0Smk9-VI1fcC}}</ref> En las técnicas de modelado dobles, una fotomáscara correspondería a un subconjunto del patrón de capa.<ref>[http://www.eetimes.com/document.asp?doc_id=1184715 Lithography experts back higher magnification in photomasks to ease challenges] // EETimes 2000</ref>