Máscara fotográfica

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Una fotomáscara
Ilustración esquemática de una fotomáscara (arriba) y un circuito integrado (abajo) creado con esta máscara.


UtilizaciónEditar

Las fotomáscaras se utilizan comúnmente (fotolitografía.[1]​) en la fabricación de circuitos integrados. Un conjunto de fotomáscaras, definiendo cada una de ellas, una capa patrón, se introduce en un paso a paso de fotolitografía (o escáner), y se selecciona individualmente para la exposición.[2]​ En las técnicas de modelado dobles, una fotomáscara correspondería a un subconjunto del patrón de capa.[3]

Véase tambiénEditar

ReferenciasEditar

  1. Benjamin Eynon; Banqiu Wu (21 de julio de 2005). Photomask Fabrication Technology. McGraw Hill Professional. ISBN 978-0-07-158891-1. 
  2. Rizvi, Syed (2005). «1.3 The Technology History of Masks». Handbook of Photomask Manufacturing Technology. CRC Press. p. 728. ISBN 9781420028782. 
  3. Lithography experts back higher magnification in photomasks to ease challenges // EETimes 2000

Enlaces externosEditar