Diferencia entre revisiones de «Fabricación de circuitos integrados»
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[[Imagen:fabricacion_CI.PNG|thumb|350px|Pasos para fabricar un MOS]]
En la siguiente figura se muestra detalladamente el proceso de fabricación de un [[Transistor#Transistores de efecto de campo (FET - Field-Effect Transistor)|transistor MOS]] (''MOSFET''). No es la única forma de hacerlo, pero es un proceso típico:
# Se parte de la oblea de material semiconductor.
# Se hace crecer una capa de óxido (zona rayada) que servirá como aislante.
# Se deposita un [[dieléctrico]] como el [[nitruro]] (capa roja) que servirá como máscara, también se podía usar simplemente el óxido anterior como máscara, depende del grosor y de los procesos siguientes.
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