Telururo de bismuto

compuesto químico

El telururo de bismuto (Bi2Te3) es un polvo gris compuesto de bismuto y telurio también conocido como telururo de bismuto(III). Es un semiconductor que, cuando se alea con antimonio o selenio, resulta un material termoeléctrico eficaz para la refrigeración o la generación de energía portátil. El Bi2Te3 es un aislante topológico, por lo que sus propiedades físicas dependen del espesor.[2]

 
Telururo de bismuto
General
Fórmula molecular Bi2Te3
Identificadores
Número CAS 1304-82-1[1]
Número RTECS EB3110000
ChemSpider 11278988
PubChem 6379155
UNII 1818R19OHO
Propiedades físicas
Masa molar 807,679443 g/mol
Estructura cristalina sistema trigonal

Propiedades como material termoeléctrico editar

El telururo de bismuto es un semiconductor estratificado de brecha estrecha con una celda unitaria trigonal. La estructura de las bandas de valencia y conducción puede describirse como un modelo elipsoidal múltiple con 6 elipsoides de energía constante centrados en los planos de reflexión.[3]​ El Bi2Te3 se rompe fácilmente a lo largo del eje trigonal debido a los enlaces de Van der Waals entre átomos de telurio vecinos. Debido a esto, los materiales basados en bismuto-teluro utilizados para la generación de energía o aplicaciones de refrigeración deben ser policristalinos. Además, el coeficiente Seebeck del Bi2Te3 a granel se compensa en torno a la temperatura ambiente, lo que obliga a que los materiales utilizados en dispositivos de generación de energía sean una aleación de bismuto, antimonio, telurio y selenio.

Recientemente, los investigadores han intentado mejorar la eficiencia de los materiales basados en Bi2Te3 creando estructuras en las que se reducen una o más dimensiones, como nanocables o películas finas. En uno de estos casos, se demostró que el telururo de bismuto de tipo n tiene un coeficiente Seebeck mejorado (voltaje por unidad de diferencia de temperatura) de -287 μV/K a 54 °C, Sin embargo, hay que tener en cuenta que el coeficiente Seebeck y la conductividad eléctrica tienen una contrapartida: un coeficiente Seebeck más alto tiene como resultado una menor concentración de portadores y una menor conductividad eléctrica.[4]

En otro caso, los investigadores informan de que el telururo de bismuto tiene una alta conductividad eléctrica de 1,1×105 S-m/m2 con una conductividad térmica de red muy baja de 1,20 W/(m-K), similar a la del vidrio ordinario.[5]

Propiedades como aislante topológico editar

El telururo de bismuto es un aislante topológico muy estudiado. Se ha demostrado que sus propiedades físicas cambian a espesores muy reducidos, cuando se exponen y aíslan sus estados superficiales conductores. Estas muestras finas se obtienen mediante epitaxia o exfoliación mecánica.

Los métodos de crecimiento epitaxial, como la epitaxia de haces moleculares y la deposición de vapor químico orgánico metálico, son métodos habituales para obtener muestras delgadas de Bi2Te3 . La estequiometría de las muestras obtenidas mediante estas técnicas puede variar mucho de un experimento a otro, por lo que a menudo se utiliza la espectroscopia Raman para determinar la pureza relativa. Sin embargo, las muestras finas de Bi2Te3 son resistentes a la espectroscopia Raman debido a su bajo punto de fusión y a su escasa dispersión del calor.[6]

La estructura cristalina del Bi2Te3 permite la exfoliación mecánica de muestras delgadas mediante la escisión a lo largo del eje trigonal. Este proceso tiene un rendimiento mucho menor que el crecimiento epitaxial, pero produce muestras sin defectos ni impurezas. De forma similar a la extracción de grafeno a partir de muestras de grafito a granel, se realiza aplicando y retirando cinta adhesiva de muestras sucesivamente más finas. Este procedimiento se ha utilizado para obtener escamas de Bi2Te3 con un grosor de 1 nm.[7]​Sin embargo, este proceso puede dejar cantidades significativas de residuos adhesivos en un sustrato estándar de Si/SiO2, que a su vez oscurecen las mediciones de microscopía de fuerza atómica e inhiben la colocación de contactos en el sustrato a efectos de ensayo. Las técnicas de limpieza habituales, como el plasma de oxígeno, la acetona hirviendo y el alcohol isopropílico, no son eficaces para eliminar los residuos.[8]

Existencia y preparación editar

La forma mineral del Bi2Te3 es la telurobismutita, que es moderadamente rara. Existen muchos telururos de bismuto naturales de diferente estequiometría, así como compuestos del sistema Bi-Te-S-(Se), como la Bi2Te3S (tetradimita).

El telururo de bismuto puede prepararse simplemente sellando polvos mezclados de bismuto y telurio metálico en un tubo de cuarzo al vacío (algo crítico, ya que una muestra sin sellar o con fugas puede explotar en un horno) y calentándolo a 800 °C en un horno de mufla.

Véase también editar

Referencias editar

  1. Número CAS
  2. Cuadrado González, Liliana Marcela (2021). «Fabricación y caracterización de Bi2Te3 exfoliado por intercalación en fase líquida». Universidad de los Andes: 3. Consultado el 8 de noviembre de 2023. 
  3. Caywood, L. P.; Miller, G. (1970). «Anisotropy of the constant energy surfaces in p-type Bi2Te3 and Bi2Se3 from galvanomagnetic coefficients». Phys. Rev. B 2 (8): 3209. Bibcode:1970PhRvB...2.3209C. doi:10.1103/PhysRevB.2.3209. 
  4. Goldsmid, H. J.; Sheard, A. R.; Wright, D. A. (1958). «The performance of bismuth telluride thermojunctions». Br. J. Appl. Phys. 9 (9): 365. Bibcode:1958BJAP....9..365G. doi:10.1088/0508-3443/9/9/306. 
  5. Takeiishi, M. «Thermal conductivity measurements of Bismuth Telluride thin films by using the 3 Omega method». The 27th Japan Symposium on Thermophysical Properties, 2006, Kyoto. Archivado desde el original el 28 de junio de 2007. Consultado el 6 de junio de 2009. 
  6. Teweldebrhan, D.; Goyal, V.; Balandin, A. A (2010). «From Graphene to Bismuth Telluride: Mechanical Exfoliation of Quasi-2D Crystals for Applications in Thermoelectrics and Topological Insulators». Nano Letters 10 (12): 1209-18. Bibcode:2010NanoL..10.1209T. PMID 20205455. doi:10.1021/nl903590b. 
  7. Teweldebrhan, Desalegne; Balandin, Alexander A. (2010). «"Graphene-Like" Exfoliation of Atomically-Thin Films of Bi». ECS Transactions: 103-117. S2CID 139017503. doi:10.1149/1.3485611. 
  8. Childres, Isaac; Tian, Jifa; Miotkowski, Ireneusz; Chen, Yong (2013). «AFM and Raman studies of topological insulator materials subject to argon plasma etching». Philosophical Magazine 93 (6): 681-689. Bibcode:2013PMag...93..681C. S2CID 38149843. arXiv:1209.2919. doi:10.1080/14786435.2012.728009. 

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