Diferencia entre revisiones de «Fotolitografía»

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[[Archivo:Wafer-trasparente.png|250px|thumb|Obleas fotolitografiadas.]]
La '''Fotolitografía''' o '''litografía óptica''' es un proceso empleado en la [[Fabricación (semiconductor)|fabricación de dispositivos semiconductores]] o [[circuito integrado]]. El proceso consiste en transferir un patrón desde una [[fotomáscara]] (denominada retícula) a la superficie de una [[oblea (electrónica)|oblea]]. El [[silicio]], en forma cristalina, se procesa en la industria en forma de [[oblea (electrónica)|obleas]]. Las obleas se emplean como substrato litográfico, no obstante existen otras opciones como el [[vidrio]], [[zafiro]], e incluso metales. La fotolitografía (también denominada como "microlitografía" o "[[nanolitografía]]") trabaja de manera análoga a la [[litografía]] empleada tradicionalmente en los trabajos de [[impresión]] y comparte algunos principios fundamentales con los procesos fotográficos.
 
 
== Véase también ==
* [[Nanolitografía]]
* [[litografía ligera]]
* [[Estereolitografía]]
 
== Referencias ==
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