Máscara fotográfica
Una máscara fotográfica es una placa opaca, con áreas transparentes que permiten que la luz se transmita en un patrón determinado.
![](http://upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/thumb/0/03/Semiconductor_photomask.jpg/280px-Semiconductor_photomask.jpg)
![](http://upload.wikimedia.org/wikipedia/commons/thumb/5/5e/Mask_illustration.svg/280px-Mask_illustration.svg.png)
Utilización
editarLas fotomáscaras se utilizan comúnmente en fotolitografía[1], para la producción de circuitos integrados. Un conjunto de fotomáscaras, definiendo cada una de ellas una capa patrón, se introduce en un paso a paso de fotolitografía (o escáner), y se selecciona individualmente para la exposición.[2] En las técnicas de modelado dobles, una fotomáscara correspondería a un subconjunto del patrón de capa.[3]
Véase también
editarReferencias
editar- ↑ Benjamin Eynon; Banqiu Wu (21 de julio de 2005). Photomask Fabrication Technology. McGraw Hill Professional. ISBN 978-0-07-158891-1.
- ↑ Rizvi, Syed (2005). «1.3 The Technology History of Masks». Handbook of Photomask Manufacturing Technology. CRC Press. p. 728. ISBN 9781420028782.
- ↑ Lithography experts back higher magnification in photomasks to ease challenges // EETimes 2000
Enlaces externos
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